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光刻清洗剂

2026-11-11 11:12:58
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光刻清洗剂
详细介绍:

适用于各种光刻胶清洗、电子设备清洗及电子仪器清洗。


产品特点:

能快速剥离晶圆片上的光刻胶、金属离子等残留物,在晶圆表面无残留杂质,对衬底材料和金属配线的腐蚀率小;能快速均匀渗透到晶圆表面,具有高效的脱脂能力,可迅速去除晶圆表面和衬底金属表面的光刻胶等残留物,一般对各种光刻胶及半导体清洗等均无腐蚀,不含氟利昂和氢氯物质,不易燃,挥发速度极快,无残留,安全环保。



产品包装:25KG/桶


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